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使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪,将具**微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。
图案可以在PC上自由创建。
因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极,所以它比电子束光刻便宜且简单,不需要制造昂贵的电极图案掩膜。
东莞市和川机械设备科技有限公司是中国较早从事冷光源曝光机研发制造的企业之一,是专注于冷光源精密曝光机系统的现代化企业。结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。” 今年,中芯国际斥资1.2亿美元购买了一台EUV较紫外光刻机,目的是未来可以生产7nm工艺芯片。与此同时,长江存储同样从荷兰ASML(阿斯麦)购买了一台机器,合川机械生产厂家,不同是的是193nm沉浸式,能用于生产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆,售价7200万美元一台。这些动辄几千万上亿美元的数字说明了什么?这说明了国产光刻机未来市场前景十分广阔!都是钱呐!
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2、控制好UV涂膜的体积收缩,调整溶剂的溶解力和挥发速率,调整膜厚、引发剂用量和灯功率,重新选择原材料和调整配方。
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主要经营LED手动曝光机,LED半自动曝光机,LED卷对卷曝光机。
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