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曝光机是20 世纪60 年代初从扫描电子显微镜基础上发展起来， 70 年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业.

紫外线曝光机工作原理:在计算机的控制下，利用聚焦电子束对**聚合物（通常称为电子抗蚀剂或光刻胶）进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形.

常见冷光源LED曝光机举例;MYCRO美国制造的恩科优（N&Q）紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光.NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用.

世界再嘈杂，工匠人的内心是安静，安定的.只有心念纯粹的人，才能耐得住现世的繁华与浮躁.十年时光荏苒，诺林电子的工程师们历经风雨，去糙求真，把整个身心都全情投入产品研发中去，UVLED曝光机厂家，世界再嘈杂，也因此纯粹，专注，而变得安静.